CRF plasma 等离子清洗机

支持材料 测试、提供设备 试机

20年专注等离子清洗机研发生产厂家

咨询热线
13632675935

低温等离子的历史由来和参数介绍

低温等离子的历史由来和参数介绍:
       低温等离子清洁的运用始于20世纪初。伴随着现代科学技术全产业链的迅速发展趋向,低温等离子清洁适用于合金材料、半导体器件、氧化成分、有机化合物和绝大部分高分子化合物材料的多种材料类别,并可满足多样化构造的清洁。等离子清洁的过程中不用任何的有机化学溶液,具备污染小、清洁质量好的优势。广泛运用于半导体制造、微电子包装、光学工业、机械航天工业、精密仪器等领域。

      低温等离子是1种常见的固体、液体、气体以外的第四种成分,主要由电子、正离子、自由基、光子等中性粒子组成,其正负电荷总是相等的,因此被称为等离子。微波等离子由输出功率为2.45GHz的微波激发工序气体放电,在正负极磁场作用下的谐振腔内产生等离子。谐振腔位于反应仓旁边,磁控管连接到微波发生器。由于整个放电的过程不需要正负电极,自偏压极小,从根本上避免了静电放电损伤。
       常用低温等离子电源激发频率有3种:四十kHz等离子为超声等离子,物理反应;13.56mHz等离子为射频等离子,物理化学反应;2.45gHz等离子为微波等离子,离子浓度最高,化学反应,典型工序为氧气或氢等离子工序。通过化学反应,氧等离子可以将非挥发性有机化合物变成挥发性CO2和水蒸气,去除污垢,清洁表面;氢等离子可以通过化学反应去除金属表面氧化层,清洁金属表面。

相关等离子产品
等离子新闻


线

诚峰智造——专注等离子研发20年

1000部啪啪免费视频,168黄页网站在线播放,4d玉蒲团奶水都喷出来了视频