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crf诚峰等离子表面处理器工艺对TSP/OLED做表面活性改性

crf诚峰等离子表面处理器工艺对TSP/OLED做表面活性改性:
       TSP/OLED设备解决方法,在TSP方面:对触摸显示屏的关键工艺做清理,改进OCA/OCR、压层、ACF、AR/AF等工艺上的粘合力/镀层力,借助在各类大气压等离子体上使用,可以消除气泡/异物,均匀地放电各类玻璃、薄膜,使表面无损伤。氮气(N2)是使用广泛的气体,其生产成本较低。本发明的气体主要是结合在线等离子表面处理器工艺对材料做表面活性改性。也可使用于抽成真空。氮气(N2)是一种能提高材料表面浸润性的气体。

等离子表面处理器

       真空等离子表面处理器的解决方法,由于真空等离子体中有很高的能量密度,所有具有稳定熔融相的粉末实际上都能被转变为致密、牢固附着的喷涂镀层,而镀层的质量取决于喷射粉末颗粒撞击工件表面时的瞬间熔化程度。真空等离子表面处理器喷涂技术为现代涂布机的生产提供了新的途径。
    表面清洁的解决方法,采用射频电源,在真空等离子体空腔中产生高能、无序等离子体,借助等离子轰击被清理的设备表面,使表面的污染物从设备上脱落,从而达到清理目的。另外,还有一些特殊气体,如四氟化碳(CF4)、六氟化硫(SF6)等,这些气体在等离子表面处理器中的使用对有机物质的蚀刻和去除更为重要。

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