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电晕放电和介质阻挡放电诚峰plasma设备的区别哪些

电晕放电和介质阻挡放电诚峰plasma设备的区别哪些:
一、诚峰plasma电晕放电
       气介质在不均衡电场中的部分自持放电。它是最常见的的汽体放电方式。在回转半径小的前沿电极的附近,考虑到部分电场强度超出的汽体的电离场强度,的汽体产生电离和激励,因而出現电晕放电。当电晕产生时,能够看见电极的附近的光,并伴有唑唑声。plasma电晕放电可以是1种比较稳定的放电方式,也能够是不均衡电场间隙穿透流程中的初期发展环节。

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二、诚峰plasma介质阻挡放电
       plasma介质阻挡放电(DBD)是1种含有绝缘介质插入放电空间的不平衡的汽体放电,也将之称为介质阻挡电晕放电或无声放电。介质阻挡放电可以在高压和宽频率范围内工作,通常工作气压为10~10。电源频率可以从50Hz到1MHz。电极构造的设计方式多种多样。2个放电电极相互间充斥着相应的工作的汽体,用绝缘介质覆盖一个或2个电极,也能够直接悬挂在放电空间或填充颗粒介质,当2个电极相互间施加足够高的交流电压时,电极相互间的的汽体会被击穿并产生放电,即产生介质阻挡放电。在实际运用中,管道电极构造广泛运用于各种化学反应器,而平板电极构造广泛运用于工业聚合物、金属塑料薄膜和板的改性、分支、界面张力、清洗和亲水改性。

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